拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月，是一家主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务的国家高新技术企业。公司在北京、上海、海宁、沈阳和美国成立子公司。产品主要应用于集成电路晶圆制造、TSV封装、光波导、Micro-LED和OLED显示等高端技术领域。

公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备、次常压化学气相沉积（SACVD）设备和高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备等系列，拥有自主知识产权，技术指标达到国际同类产品的先进水平。

公司在北京、上海、武汉、合肥、天津和台湾等20多个地区的近60多条生产线都设有技术服务中心，为客户提供每周7天，每天24小时的技术服务。

拓荆公司愿与业界伙伴建立真诚、友好、共赢的产业合作联盟，为中国及世界半导体产业的发展做出贡献。

以下是公司的主要发展历程：

2010年4月，公司成立。

2010年10月，首台12英寸PECVD出厂。

2010年12月，推出12英寸PF-300T多反应腔设备，并通过客户产品线测试。

2011年3月，PF-300T在客户端生产线突破一万片。

2011年12月，完成第二轮增资，获国家集成电路产业投资基金战略投资。同时，拓荆新厂投入使用。

2012年3月，12英寸ALD出厂。

2012年12月，NF-300H PECVD 高产能设备出厂。

2013年10月，PF-300T流片突破一百万片。

2014年9月，SACVD研制成功并出厂到客户端。

2014年12月，获国际大厂先进制程重复订单。同时，完成UV Cure研发，首台出货到客户端。客户端总流片量超过1500万片。

2015年11月，整机累计出货量超过100台套。

2015年12月，全年设备出货100台，客户端总流片量超过4600万片。同时，完成HDP产品研发并进入关键客户验证。

2016年4月，拓荆科技成功上市。

2016年12月，硬掩膜 ACHM 机台出厂。

2017年10月，12英寸ALD通过工艺验证。

2017年、2019年，公司获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。

公司致力于技术创新和质量提升，愿与全球业界伙伴携手合作，共同推动半导体产业的发展。