尊敬的杭州光研科技有限公司：

您好！我们诚挚地邀请您参加“第一届中日电子束光刻技术交流会”。本次交流会旨在促进中日两国在电子束光刻技术研发、应用和产业合作方面的深入交流，推动双方在该领域的技术创新和发展。

电子束曝光系统是可控获得纳米级图形的重要工具，被广泛应用于新材料、前沿物理研究、仿生、光子、微纳光学、光波导、光子晶体、生物、电子等领域。近年来，电子束也被应用于3D结构光器件的加工、光子芯片加工、高功率芯片加工领域，还有掩膜版制作等领域。

本次交流会的日程安排如下：14:00-15:00、16:00-17:00、18:00-21:00，签到集合、游船、交流晚宴。我们期待您的到来，与中日两国的专家共同探讨电子束光刻技术的现状及发展前景。

请您在收到邀请后尽快回复，确认是否参加，以及提供必要的个人信息。我们期待与您在交流会上相见。

此致

敬礼！

主办方

日期：2023年12月18日