易企秀提供的在线设计平台助力【2015上海国际时尚研讨会开放注册】H5作品的制作。本作品以【Fashion Colloquia Shanghai】为主题，聚焦于2015年4月21日至22日在上海举行的国际时尚研讨会。该研讨会由伦敦时尚学院、米兰多莫斯设计学院、法国时尚学院和纽约帕森斯设计学院共同发起，旨在通过时装周这一全球时尚潮流的催化剂，挑战全球对时尚潮流的理解。历届研讨会吸引了来自世界各地的学者、设计师和媒体人士的积极参与，其研究成果和活动记录成为研究时尚发展的宝贵资源。所有资料均保存在其国际时尚资料库网站http://www.fashioncolloquia.com上，供全球学者和学生查询参考。易企秀丰富的模板库和便捷的操作，让用户可以快速制作出专业且美观的H5作品，有效传达活动信息。