易企秀公司提供的在线设计工具，助力您轻松制作H5品类作品。本作品以“NSTL科技文献信息开放服务云论坛-报名通道”为主题，由易企秀丰富模板快速制作，内容详实，旨在为各界人士提供报名参加‘NSTL科技文献信息开放服务云论坛暨国家科技文献保障模式研讨会’的信息。会议时间：2020年7月22日-24日，以网络直播方式进行，免费开放，由国家科技图书文献中心、中国国家图书馆及中国科学技术信息研究所联合举办。会议内容包括科技文献保障模式研讨，旨在探讨数字环境下的学术信息资源保障新思路，提升科技人员文献获取的信息素养。欢迎各界人士踊跃报名参加。