诚挚邀请您参加由易企秀在线设计平台制作的【H5】作品【可持续创新与FRAND许可—2018中国专利年会专题研讨会】。本作品以2018年中国专利年会专题研讨会为主题，于2018年8月31日在北京举办。随着5G、物联网、AI等技术的发展，标准必要专利保护问题日益受到关注。本H5通过详尽介绍，强调了标准必要专利保护对于保护创新主体知识产权成果及促进相关行业持续健康发展的重要性。标准必要专利的FRAND许可原则，旨在通过合理的谈判和许可协议，确保专利权人获得合理回报，同时促进标准技术的持续发展。易企秀为您提供丰富的模板和便捷的在线设计工具，助您快速制作出专业级的H5作品。