探索正畸领域的先进技术，【上海站】DCA头影测量与VTO间隙管理H5作品，由易企秀在线设计平台制作。作品以10月23-24日在上海举办的第35期课程为主题，深入解析传统头影测量方法中的误差因素。包括描迹图精准度、定点精准度、画线精准度、量角器摆放精准度、眼睛读数精准度等，并探讨测量数据误差的影响。易企秀的在线设计工具提供丰富模板，让用户能快速制作专业H5作品，分享正畸技术的最新进展。