易企秀提供的在线设计工具，助力用户快速制作H5作品。本作品为邀请类H5，主题为“邀请参加构建双循环新发展格局高峰论坛”，内容围绕“暨注册制下知识产权保障体系建设高峰论坛”展开。作品发布日期为2020年9月25日，地点在中国南京。邀请函中提到，本次论坛旨在探讨如何在“以国内大循环为主体、国内国外双循环相互促进的新发展格局”下，引导企业找到适合自身发展的新思路、新模式和新路径。南大安高资本市场研究院举办此次高峰论坛，诚挚邀请业内同仁参与。通过易企秀平台，用户可以轻松制作出专业且吸引人的邀请H5，满足各种商业和活动推广需求。