易企秀提供的在线设计工具助力制作了第三届光子学与光学工程国际会议（icPOE 2018）的H5作品。本次会议在西安召开，定于2018年12月5日至8日，是光子学与光学工程领域的前沿科技论坛。会议邀请多位国际、国内著名专家、学者作大会特邀报告和邀请报告，共设十个学术专题。会议论文将收录在美国SPIE论文集(EI检索)，预计参会规模约150人。通过易企秀的丰富模板和快速制作功能，会议信息得以高效传达，展现了一场专业且具有国际视野的学术盛会。