尊敬的专家/学者/同仁：

您好！我们诚挚邀请您参加“第一届中日电子束光刻技术交流会”。本次交流会我们邀请了日本著名的电子束光刻设备厂家的研发及技术人员，也邀请了中国著名大学，研究所及产业界的专家学者，旨在为中日两国电子束光刻领域的专家学者搭建一个共同交流的平台，共同探讨电子束光刻技术的现状及发展前景。

电子束曝光系统因为是可控获得纳米级图形的重要工具，因而被广泛应用于以新材料(如超材料、表面工程)、前沿物理研究(如超导、量子)、仿生(功能性表面)、光子(微纳光学、光波导、光子晶体)、生物(DNA测试、纳流控)、微电子等研究领域。近年来，电子束也被应用于3D结构光器件的加工、光子芯片加工、高功率芯片加工领域，还有掩膜版制作等领域。

本次技术交流会是一次聚焦于电子束光刻技术领域，召集中日两国专家共同参与交流的一次盛会。此次交流会旨在促进中日两国在电子束光刻技术研发、应用和产业合作方面的深入交流，推动双方在该领域的技术创新和发展。

交流会的具体日程如下：

时间：2023年12月18日至19日

地点：杭州市集成电路产业园D幢302室

会议期间，我们将邀请您参加技术报告、茶歇、技术交流和商务洽谈等活动。

联系方式：

Tel：吴小红：18357588347

俞 珩：16775717571

我们将在您的到来中，为您带来最新的电子束光刻技术，期待您的加入！

感谢您的关注和支持！

此致

敬礼！

一般社团法人 日中半导体协会