易企秀用户制作的H5作品《专利如何挖掘》由eqxiu.com提供的在线设计平台打造，该作品深入探讨了专利申请的技术性和法律性。作品首先回顾了专利的必要性和价值，进而解答了“如何挖掘专利”的问题。作品强调专利申请是一个涉及法律性和技术性的复杂过程，其中专利挖掘是关键环节。作者提出了“从无到有、从有到优”的八字方针，强调通过寻找问题和更优的解决方案来促进科技发展。本作品不仅提供了专利挖掘的方法，还展示了如何将思路转化为专利申请，使专利管理人员认可专利的价值。通过易企秀丰富的模板和便捷的操作，用户可以快速制作出专业级的H5作品，传播专利知识，推动科技发展。