易企秀提供的在线设计平台，助力【上海站】DCA头影测量与VTO间隙管理H5作品的制作。华文正畸主办的这场10月23-24日在上海举行的第35期培训，聚焦于传统头影描迹图的测量数据可信度、可重复性和误差分析。作品通过易企秀的丰富模板，快速制作出清晰易懂的内容，涵盖描迹图精准度、定点精准度、画线精准度等多个测量环节，强调数据误差的影响因素。此外，作品还指出传统描图纸测量数据的局限性，如无法即时网络传输。易企秀的便捷设计工具，让正畸专业人士能够更高效地传达专业知识和信息。