易企秀公司为第十五届等离子基离子注入与沉积国际会议（PBII&D 2019）精心制作的H5邀请函，以在线设计和丰富模板为基础，快速呈现专业视觉效果。此邀请函聚焦于2019年12月19日至22日在中国深圳举办的PBII&D会议，旨在展示等离子体离子辅助表面处理和薄膜沉积、检测的最新科学发展和未来趋势。会议邀请了国内外材料领域的顶尖专家和学者进行互动交流，探讨先进材料领域的发展趋势，分享研究成果。易企秀的在线设计工具让制作过程更加便捷高效，为全球研究人员提供了交流和合作的平台。