易企秀为您呈现的“美国和日本专利申请实务及策略”公益讲座H5作品，由资深知识产权专家龙华明裕先生主讲，深入剖析美国、日本专利申请实务及策略。讲座地点位于南山数字文化产业基地，时间定于9月27日下午。本次讲座包含三个议题：《日本专利的修改要求》、《关于日本专利审查的十个建议》以及《调整多国申请的顺序以便获得有效的美国专利》。讲座旨在帮助企业和科研机构解决海外知识产权纠纷、专利保护、知产壁垒、多国申请专利冲突等问题，提升海外竞争力。本作品采用易企秀在线设计工具制作，丰富的模板助力快速完成精美H5制作。