易企秀提供的在线设计平台助力制作H5品类作品，标题为《背光技术研讨邀请函》，内容围绕背光技术交流展开。具体信息包括：研讨会地点为龙岗天马研发楼101会议室，时间为2020年5月27日下午1点至6点30分。鉴于背光新技术、新材料、国产化需求，及近期终端客诉背光白点、Waving、Peeling等异常，特组织并邀请TM材料技术专业人士及背光厂研发品质人员进行技术交流。会议将讨论如何从设计、新材料搭配上提出积极建议，以支撑质量交付，满足客户需求。会议背景和技术交流主要内容涵盖孔的要求、国产材料导入及高亮BEF验证等方面。诚挚邀请您出席本次会议！